专利

当前位置: 首页 -> 学术成果 -> 专利 -> 正文

一种超高真空原位薄膜多图案化装置及方法(ZL202210320732.3)

发布日期:2022-03-29   点击量:

专利名称:一种超高真空原位薄膜多图案化装置及方法

发明人:潘毅,张又麒,王受信,闵泰

申请号:2022103207323

专利号:ZL202210320732.3

授权日期:2022.12.9


© 2016 自旋电子材料与量子器件研究中心. All Rights Reserved.
地址:陕西省西安市咸宁西路28号(710049)